灰化炉（Ashers）是半导体制造中用于去除光刻胶的关键设备，臭氧灰化工艺产生的尾气需要高效分解处理。
在半导体制造的光刻工艺后，需要使用灰化炉去除晶圆表面的光刻胶。臭氧灰化是一种干法去胶技术，利用臭氧在等离子体或高温条件下产生的活性氧原子来氧化分解光刻胶。此过程中会产生含臭氧的尾气。
灰化过程中未反应的臭氧随尾气排出
光刻胶分解产生的有机副产物随尾气排出
灰化炉通常连续运行，要求尾气处理系统稳定可靠
99.99%处理效率，适用于单台灰化炉的臭氧尾气处理
大流量处理，适用于多台灰化炉共享尾气处理
可替换催化剂，适用于现有灰化炉尾气处理系统的维护更换
我们的技术团队将根据您的灰化工艺参数，推荐适合的尾气处理方案。